場鏡：又稱平面聚焦透鏡、掃描透鏡、F-θ透鏡。 場鏡主要用于將激光振鏡發出的光聚焦在一個平面上。 場鏡在購買時應注意場鏡的標示范圍，根據自己的需要自行確定。 光纖打標機和半導體打標機的波長都是1064nm，兩者的場鏡一般都是通用的。 

場鏡的主要作用是： 

1、提高邊緣光束進入探測器的能力；  

2、使探測器光敏面上的非均勻照度均化；  

3、 在相同的主光學系統中，附加的場鏡會減少探測器的面積； 如果使用相同面積的探測器，可以擴大視場，增加入射通量；

關于關于場鏡的幅面，很多客戶都想買大幅面的場鏡，因為考慮到自己這次的產品會做大一些，下次的產品可能會更大，也許需要大的幅面，為了長遠利益，所以買大幅面的場鏡。 但是有一個問題要注意： 場鏡幅面越大，相應場鏡的焦距和工作距離越大。 焦距越長，激光聚焦光斑越大。 同樣的激光分布在更大的光斑區域，能量密度必然會變小，從而導致打標深度很淺。  

都知道激光能量在空氣中的衰減很強。 換句話說，場鏡焦距越大，激光能量損失越大，線條越粗越淺。 華鵬艾偉鄭重提示：場鏡幅面選擇合適的就好，千萬不要盲目求大。